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Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10112/3226

Title: 中低温動作マイクロSOFCのためのGd添加CeO2の堆積と微細加工
Other Titles: Deposition and Microfabrication of Gd-doped CeO2 for Micro SOFC Operating at Low Temperature
Authors: 高橋, 智一
Author's alias: TAKAHASHI, Tomokazu
Issue Date: 10-Nov-2010
Publisher: 関西大学理工学会
Shimei: 理工学と技術 : 関西大学理工学会誌 = Engineering & technology
Volume: 17
Start page: 43
End page: 46
Abstract: 携帯機器に搭載できるSOFCの構造として極薄のGd 添加CeO2 (GDC) 膜を自己支持にし、そこに局所加熱のためにマイクロヒータを配した構造を提案し た。これを実現するためにGDC膜の残留応力を成膜中の酸素分圧によって制御する方法を試み、-160 MPaの低応力膜を持た。GDC膜のエッチング耐性を調査し、その結果に基づいて作製プロセスを設計し、提案したマイクロSOFCの基本構造を作製した。作製したGDC自己支持膜のイオン導電率は報告されているバルクGDCの値より低いが400℃以下の低温ではバルクYSZよりも高い値を示しており、GDC自己支持膜を用いてマイクロSOFCの低温化が期待できる。
Description: トピックス
type: Departmental Bulletin Paper
URI: http://hdl.handle.net/10112/3226
ISSN: 18830021
NCID: AA12311681
Text Version: publisher
Appears in Collections:理工学と技術 : 関西大学理工学会誌-Vol. 17

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